स्पटरिंग लक्ष्य

टैंटलम लक्ष्य

1. सामग्री: शुद्ध टैंटलम . 2. मानक: एएसटीएम B708 RO5200 . 3. शुद्धता: ≥99.90% या 99.99% . 4. टाइप: परिपत्र लक्ष्य, आयताकार लक्ष्य .

मोलिब्डेनम लक्ष्य

1. उत्पाद का नाम: मोलिब्डेनम लक्ष्य . 2.Metaril: मो . 3.Purity: 99.9% . 4.प्लेट लक्ष्य: वजन: l200 किग्रा / पीसी, लंबाई: Χ165mmate1000mm

निकल लक्ष्य

1. उत्पाद का नाम: निकल प्लेट / निकल लक्ष्य . 2. शुद्धता: 99.6%, 99.9%, 99.99% . 3.Condition: annealed या अघोषित . 4. आवेदन: निकल प्लेट PVD (शारीरिक वाष्प जमाव) कोटिंग, इलेक्ट्रॉनिक चढ़ाना और

टाइटेनियम लक्ष्य

1. सामग्री: शुद्ध टाइटेनियम लक्ष्य . 2. शुद्धता: 99.5% - 99.995% . 3.Size: customed . 4.Xicon Econ सभी प्रकार की शुद्ध टाइटेनियम प्लेट, बार और अन्य मिश्र धातु प्रदान करता है।

नियोबियम टारगेट

1. उत्पाद का नाम: Niobium लक्ष्य . 2. मानक: एएसटीएम B393 RO4200-1, RO4210-1 . 3. प्रकार: आयताकार लक्ष्य रेखा वृत्ताकार लक्ष्य . 4. शुद्धता: ≥99.90% या 99.95% . 5. आवेदन: Niobium लक्ष्य सजावट

टंगस्टन लक्ष्य

1. उत्पाद का नाम: टंगस्टन लक्ष्य . 2. आकार: परिपत्र लक्ष्य, घूर्णन योग्य लक्ष्य और आयताकार लक्ष्य . 3. आकार: दीया: 60-200 मिमी, लंबाई: 200-1000 मिमी, मोटाई: 5-30 मिमी . 4. सतह: चौरसाई, सीएनसी